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Quelle Ultrahochvakuumkompatibles Magnetron-DC-Sputterquelle
Quelle Ultrahochvakuumkompatibles Magnetron-Kitano Seiki Co., Ltd.

Quelle Ultrahochvakuumkompatibles Magnetron
Kitano Seiki Co., Ltd.

Antwortstatus von Kitano Seiki Co., Ltd.

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100.0%

Antwortzeit

22.5Stunden

Relativ schnelle Antwort

Über dieses Produkt

■Zusammenfassung

Bei dieser Sputterquelle handelt es sich um eine universell einsetzbare, kompakte Magnetron-Sputterquelle, die mit Ultrahochvakuum kompatibel ist. Da der Grundkörper vollständig ausheizbar ist, ist es möglich, auch bei hochreaktiven Targets Filme mit wenigen Verunreinigungen zu bilden.

■Funktionen

・Ultrahochvakuumtyp, der keine O-Ringe verwendet ・Der Magnet kann entfernt werden, während die Sputterquelle im Ultrahochvakuum bleibt. ・Durch Entfernen des Magneten ist Backen bei bis zu 300℃ möglich. ・Die Zielscheibe wird mit einer Halterung fixiert, so dass die Zielscheibe in kurzer Zeit ausgetauscht werden kann. ・Der Gaseinlass ist in den Montageflansch integriert, sodass für die Gaseinleitung kein Flansch erforderlich ist.

  • Produkt

    Quelle Ultrahochvakuumkompatibles Magnetron

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1 Modelle von Quelle Ultrahochvakuumkompatibles Magnetron

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) Zielgröße Festes Ziel Backtemperatur Magnetmaterial Montageflansch
Quelle Ultrahochvakuumkompatibles Magnetron-Part Number-DC-Sputterquelle

DC-Sputterquelle

Auf Anfrage erhältlich

1,5 Zoll (rund)

Haltertyp

300℃

SmCo

ICF-152

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