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Analyse-/Beobachtungs-/Auswertungsausrüstung UHV-kompatible LasermikroskopausrüstungVerarbeitendes Unternehmen
Kitano Seiki Co., Ltd.Kategorien
| Bild | Teilenummer | Preis (ohne Steuern) | Gasleitung | Vergrößerung | Ultimatives Vakuum | Heiztemperatur des Substrats | Sichtfeld | Stichprobengröße |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
UHV-kompatibles Lasermikroskopgerät |
Auf Anfrage erhältlich |
1 gemischtes System |
250~1.250× |
≦1,0E-6Pa |
Max. 500 ℃ |
1.150–230 μm |
10mm |
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20.7Std.
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