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Anlagen zur Dünnschichtproduktion, PVD-Anlagen, Hybrid-Aufdampfanlagen-Hybrid-Aufdampfanlage
Anlagen zur Dünnschichtproduktion, PVD-Anlagen, Hybrid-Aufdampfanlagen-Kitano Seiki Co., Ltd.

Anlagen zur Dünnschichtproduktion, PVD-Anlagen, Hybrid-Aufdampfanlagen
Kitano Seiki Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

■Funktionen

Bei dieser Anlage handelt es sich um eine Hybridverdampfungsanlage, die mit vier Magnetron-Sputterquellen im PVD-Verfahren, zwei EB-Verdampfungsquellen und K-CELL für MBE ausgestattet ist. Ferromagnetische Materialien, die im Allgemeinen nur schwer in Kombination mit einer Vielzahl von Materialien wie Materialien mit hohem Schmelzpunkt und Oxiden verwendet werden können, können durch Hinzufügen einer Konfiguration zum Sputtern mit entgegengesetztem Magnetron ermöglicht werden. Der Multi-Port am Unterflansch kann zusätzlich mit einer MBE-Abscheidungszelle ausgestattet werden, was ihn zu einem äußerst vielseitigen Mehrkammersystem macht, das für die Kombination aller PVD-Methoden, einschließlich RHEED und Lasereinbringung, konfiguriert werden kann und so einen langfristigen Einsatz des Systems unabhängig vom Forschungsthema ermöglicht.

■Konfiguration

・φ300 Ultrahochvakuum-Mehrkammer (mit LN2-Abdeckung) ・Transportkammerkammer ・Elektronenkanone zur Abscheidung x 2 ・2-Zoll-Sputterquelle x 2 ・K-CELL×2 Einheiten ・Manipulator mit 4-Achsen-Heizmechanismus ・TMP&SP-Abgaseinheit ・RHEED+3-Zoll-Bildschirm

  • Produkt

    Anlagen zur Dünnschichtproduktion, PVD-Anlagen, Hybrid-Aufdampfanlagen

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1 Modelle von Anlagen zur Dünnschichtproduktion, PVD-Anlagen, Hybrid-Aufdampfanlagen

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) Ultimatives Vakuum Boardgröße Heiztemperatur des Substrats Probentransport
Anlagen zur Dünnschichtproduktion, PVD-Anlagen, Hybrid-Aufdampfanlagen-Part Number-Hybrid-Aufdampfanlage

Hybrid-Aufdampfanlage

Auf Anfrage erhältlich

≦1,0E-7Pa

2 Zoll

Max. 1.000 ℃

Übertragungsstange

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