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Dünnschicht-Produktionsausrüstung 4-Element-Magnetron-Sputter-Ausrüstung-Ausrüstung zum quaternären Magnetronsputtern
Dünnschicht-Produktionsausrüstung 4-Element-Magnetron-Sputter-Ausrüstung-Kitano Seiki Co., Ltd.

Dünnschicht-Produktionsausrüstung 4-Element-Magnetron-Sputter-Ausrüstung
Kitano Seiki Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

Bei diesem Gerät handelt es sich um ein Magnetron-Sputtergerät vom Typ Brainer, das eine Gleichstrom-Magnetron-Sputterquelle verwendet. Dies ist ein Ultrahochvakuum-kompatibler Typ, der über eine eigene Ladeschleusenkammer verfügt. Es verfügt über einen Probenrotationstyp, der eine gleichmäßige Filmbildung während der Filmbildung ermöglicht. Darüber hinaus ist eine Probenkühlung während der Rotation möglich, um Probenschäden zu vermeiden. Die Struktur ermöglicht die Anbringung von bis zu vier Zielen, wodurch eine mehrschichtige Filmbildung möglich ist. Da es sich um einen mehrkammerkompatiblen und zukunftsorientierten Typ handelt, lässt er sich problemlos an die von Ihnen aktuell genutzten Geräte anschließen.

■Spezifikationen

・Alle Vakuumkomponenten außer dem Vakuummeter können wiederholt bei Temperaturen über 200℃ gebacken werden. ・Die Kammer ist mit Ultrahochvakuum kompatibel und die Leckagemenge des He-Leckdetektors beträgt weniger als 1,33×10^-11Pa・m3/s ・Sie können einen Platinenhalter (hergestellt von Mo) verwenden, der 2-Zoll-Platinen unterstützt. ・Der Substrathalter kann mithilfe unserer optionalen Transferstange sicher manuell zum Halterbefestigungsmechanismus auf dem Probentisch transportiert werden. ・Der Sockel ist mit Rollen und einer Funktion zur Höhenverstellung ausgestattet.

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    Dünnschicht-Produktionsausrüstung 4-Element-Magnetron-Sputter-Ausrüstung

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1 Modelle von Dünnschicht-Produktionsausrüstung 4-Element-Magnetron-Sputter-Ausrüstung

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) 3-Achsen-Manipulator R-Richtung 3-Achsen-Manipulator Z-Richtung Neigungsrichtung des 3-Achsen-Manipulators AC100V AC200V Beispiel für Heizmaterial Der Probenheizer hat die Temperatur erreicht Beispiel einer Heizmethode Methode des Hauptverschlussmechanismus Motorsteuerung unteren Flanschanschluss Leckagemenge am unteren Flansch Untere Flanschform Material des unteren Flansches Oberflächenbehandlung des unteren Flansches Hochtemperaturbehandlung des unteren Flansches Druckluft Gestell Leckagemenge des Flüssigstickstoffmantels Mantelbehandlung mit flüssigem Stickstoff Flüssigstickstoff-Umhüllungsmethode Umhüllungsmaterial aus flüssigem Stickstoff Bewegungsmechanismus des Filmdickensensors Ultrahochvakuum-Kammeranschluss Leckagemenge der Ultrahochvakuumkammer Ultrahochvakuumkammer, ultimatives Vakuum Ultrahochvakuumkammerform Ultrahochvakuumkammermaterial Oberflächenbehandlung in der Ultrahochvakuumkammer Hochtemperaturbehandlung in der Ultrahochvakuumkammer
Dünnschicht-Produktionsausrüstung 4-Element-Magnetron-Sputter-Ausrüstung-Part Number-Ausrüstung zum quaternären Magnetronsputtern

Ausrüstung zum quaternären Magnetronsputtern

Auf Anfrage erhältlich

360° (∞) (rotierende Plattform KMRP-114) Motorantrieb

100-mm-Motorantrieb (vertikaler Mechanismus KUD-114/100Z).

90° (vertikaler Mechanismus KUD-114/70SP) Motorantrieb

Einphasig 30A

Dreiphasig 20A

Ta (Heizteil) Molybdän (Hauptkörper)
Für die Elektrode wird ein Drehgelenk verwendet.

Grundoberflächentemperatur Max. 1.200℃

Typ mit Klauenhalter

Übertragungsstangenmethode (optional/Motorantrieb)

Controller für Schrittmotor
Kommt mit spezieller Box

ICF-203, ICF-152, ICF-114, ICF-70

5×10^-11Pa・m3/Sek

ICF-356/152×4/70×1

SUS316L

Elektrolytisches Hochglanzpolieren aus Verbundwerkstoff

Vakuumbacken bei 450℃ x 48 Stunden oder mehr

5kg/cm2

Material: SS-Material/Einbrennlackierung (schwarz)
Abmessungen: 600 x 1.200 x 1.500 (mit Rollen und Verstellern)

5×10^-8Pa・m3/Sek

Hochglanzpolieren, Wärmezyklusbehandlung (10 Mal)

Speichertyp für flüssigen Stickstoff (verwendet 8/3″-Rohr)

Edelstahl 316L

Sensor: Quarzoszillator (optional)
Montageflansch: ICF-70
Verfahrweg: 100 mm (Genauigkeit 0,1 mm)

ICF-203, ICF-152, ICF-114, ICF-70

5×10^-11Pa・m3/Sek

1×10^-11Torr oder weniger (bei Verwendung einer Flüssigstickstoff-Kühlung und einer Turbomolekularpumpe mit 300 l/s oder mehr oder einer Ionenpumpe mit 300 l/s oder mehr)

ICF-356-N Spezial/203/152/114/70

SUS316L

Elektrolytisches Hochglanzpolieren aus Verbundwerkstoff

Vakuumbacken bei 450℃ x 48 Stunden oder mehr

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