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Produkt
Ausrüstung zur Dünnschichtproduktion. Magnetron-Sputter-AbscheidungsausrüstungVerarbeitendes Unternehmen
Kitano Seiki Co., Ltd.Kategorien
Bild | Teilenummer | Preis (ohne Steuern) | Ultimatives Vakuum | Grundheiztemperatur | Kontrolle der Verdunstungsquelle | Probentransportmechanismus |
---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung |
Auf Anfrage erhältlich |
≦1,0E^-7Pa |
Grundoberflächentemperatur Max. 500℃ |
Emissions- und Sweep-Kontrolle |
Übertragungsstabmethode |
Die hier gezeigten Bewertungen sind Unternehmensbewertungen.
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