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Ausrüstung zur Dünnschichtproduktion. Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung-Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung
Ausrüstung zur Dünnschichtproduktion. Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung-Kitano Seiki Co., Ltd.

Ausrüstung zur Dünnschichtproduktion. Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung
Kitano Seiki Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

■Funktionen

Bei dieser Anlage handelt es sich um eine Ultrahochvakuum-Dünnfilmproduktionsanlage vom Brainer-Typ mit Magnetronsputtern unter Verwendung einer Gleichstrom-Magnetronsputternquelle. Es verfügt über einen Rotationsmechanismus des Probenhalters, der eine gleichmäßige Filmbildung ermöglicht, und über ein System, das gleichzeitig die Probenkühlung ermöglicht, sodass die Probe nicht beschädigt wird. Es können bis zu drei Ziele angebracht werden, wodurch es sich hervorragend für die Bildung mehrschichtiger Filme eignet. Darüber hinaus basiert das Design auf Ergonomie, einschließlich einer einfachen Handhabung von Proben und Spitzen sowie einer Verriegelungsfunktion für eine sichere Verwendung.

■Gerätekonfiguration

・Sputterfilmbildungsraum ・Antriebsmechanismus für die Abscheidungsstufe ・Antriebsmechanismus für den Probenkühltisch ・Beispiel-Basis-Verschlussmechanismus ・Schleusenraum laden ・Probentransportmechanismus ・Controller für die Dampfabscheidungsquelle

  • Produkt

    Ausrüstung zur Dünnschichtproduktion. Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung

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1 Modelle von Ausrüstung zur Dünnschichtproduktion. Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) Ultimatives Vakuum Grundheiztemperatur Kontrolle der Verdunstungsquelle Probentransportmechanismus
Ausrüstung zur Dünnschichtproduktion. Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung-Part Number-Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung

Magnetron-Sputter-Abscheidungsausrüstung

Auf Anfrage erhältlich

≦1,0E^-7Pa

Grundoberflächentemperatur Max. 500℃

Emissions- und Sweep-Kontrolle

Übertragungsstabmethode

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