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Infrarot-Spiegelofen für Laboranwendungen – Infrarot-Lampenheizanlage RTP-6-RTP-6
Infrarot-Spiegelofen für Laboranwendungen – Infrarot-Lampenheizanlage RTP-6-ULVAC Sales Co., Ltd.

Infrarot-Spiegelofen für Laboranwendungen – Infrarot-Lampenheizanlage RTP-6
ULVAC Sales Co., Ltd.

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86.4Stunden

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4.8

Über dieses Produkt

■Übersicht

Lampen-Ausheilanlage für Wafer bis 6 Zoll. Ermöglicht die Silizidbildung in Prozessen für diskrete Halbleiter sowie das Prozessausheilen von Verbindungshalbleitern.

■Anwendungen

Schnelle Wärmebehandlung von Si-Wafern möglich

■Merkmale

Dank Kaltwandaufbau keine Kontamination durch Schwermetalle.

  • Produkt

    Infrarot-Spiegelofen für Laboranwendungen – Infrarot-Lampenheizanlage RTP-6

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1 Modelle von Infrarot-Spiegelofen für Laboranwendungen – Infrarot-Lampenheizanlage RTP-6

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) Anwendung Temperaturbereich Atmosphäre Probenabmessungen
Infrarot-Spiegelofen für Laboranwendungen – Infrarot-Lampenheizanlage RTP-6-Part Number-RTP-6

RTP-6

Auf Anfrage erhältlich

Pumpset aus Turbomolekularpumpe/Drehschieberpumpe
Kühlwasser-Umlaufgerät
Pyrometerregelung
SiC-Kohlenstoff-Suszeptor

Raumtemperatur bis 1.000 °C

In Gas, im Gasstrom, an Luft

Wafergröße 4 bis 6 Zoll

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