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Sputtergeräte-Sputtergeräte
Sputtergeräte-Arios Co., Ltd.

Sputtergeräte
Arios Co., Ltd.

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2.7Stunden

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5.0

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Über dieses Produkt

■Zusammenfassung

Hierbei handelt es sich um ein Filmabscheidungssystem, das Sputtern (oft als Sputtern abgekürzt) nutzt. Ein Merkmal der Filmbildung durch Sputtern besteht darin, dass die Partikel, die zum Substrat fliegen, eine relativ hohe Energie haben, wodurch ein starker Film mit hoher Haftung erzeugt werden kann. Da andererseits Plasma mit Argon oder anderen Materialien erzeugt wird und dieses auf das Substrat einwirkt, kann es zu Problemen wie einer Aufrauung der Substratoberfläche kommen. Bei diesem Gerät handelt es sich um ein Sputtergerät, das Magnetronentladung nutzt und mit Ultrahochvakuum kompatibel ist. Bei Forschungs- und Entwicklungsanwendungen spart das kompakte Design Platz. Ideal für Prototyping und Experimente und einfach zu verwenden. Es gibt auch ein kompaktes Sputtergerät (SS-DC RF301), das bequemer, platzsparender und benutzerfreundlicher ist.

■Funktionen

・Da es sich um ein kleines Sputtergerät handelt, ist es einfach zu bedienen. ・Je nach Spezifikationen können Sie zwischen zwei Typen wählen. ・Es steht eine große Auswahl an Optionen zur Verfügung, sodass Sie aus einer Vielzahl von Optionen wählen können. - Das Load-Lock-System ermöglicht eine stabile Filmbildung.

■Kathode

・RF-Magnetron-Sputtern ・DC-Magnetron-Sputtern *Fotos der 2-Zoll-Kathode und der 1-Zoll-Kathode finden Sie in der Einführung Teil 2: Kleine Sputtergeräte. Es ist auch möglich, die von Ihnen angegebene Sputterquelle in die Spezifikationen aufzunehmen.

■Optionen

・Substratheizmechanismus ・Substratrotationsmechanismus ・RF-Anwendungseinheit zum Vorsputtern ・Massenfluss ・Diversifikation ・Änderung der Boardgröße

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    Sputtergeräte

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1 Modelle von Sputtergeräte

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) HF-Stromversorgung ⁄ Gleichstromversorgung Gaseinleitungssystem Leckrate Ausgabe-Display-Monitor-Ausgabe Enddruck Boardgröße Abgasanlage Vakuummeter Membrandruckverteilung Gerätekonfiguration
Sputtergeräte-Part Number-Sputtergeräte

Sputtergeräte

Auf Anfrage erhältlich

0~300W

1 System

1×10^-10 Pa・m^3⁄sec oder weniger

800 W 0 ~ 5 V DC linearer Ausgang mit analogem Messgerät

Abscheidungskammer: 1×10^-5 Pa oder weniger
Wechselraum: 1 Pa oder weniger

φ50mm (Standard)

Abscheidungskammer: 200 L⁄sec TMP + Scrollpumpe
Austauschraum: Scrollpumpe (mit Vorleitungsfalle)

Abscheidungskammer: Vollbereichsanzeige, Kapazitätsanzeige
Tauschraum: Pirani-Spurweite

Innerhalb von ±5 % innerhalb einer Platine mit einem Durchmesser von 50 mm

Filmbildungsraum + Austauschraum

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