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Kleine Sputteranlage SS-DC RF301Verarbeitendes Unternehmen
Arios Co., Ltd.Kategorien
| Bild | Teilenummer | Preis (ohne Steuern) | Kathode | Größe des Kathodenziels | Kathodentargetmaterial | Kathodenkühlmethode | Kathodenstromversorgung | Gasversorgungssystem | Größe | Leckmenge | Enddruck | Brettbühne | Board-Auf-/Ab-Mechanismus | Heiztemperatur des Substrats | Abgasanlage | Hauptkörperständer | Prozessgas | Versorgungsbetriebe Stickstoffgas (zur Spülung) | Netzstrom | Vakuummeter | Gewicht |
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SS-DC RF301 |
Auf Anfrage erhältlich |
Magnetronkathode |
2 Zoll |
Verschiedene mechanische Spannmethoden oder Klebemethoden |
Wassergekühlt (ausgestattet mit Kühler) |
DC-Ausgang 500 W oder HF-Ausgang 300 W |
MFC1-System (Ar) 1/4 SwagelokTM- oder VCRTM-Anschluss |
B540×T600 H1280 (ohne Verbindungsteile usw.) |
1×10^-8 Pa・m^3/s oder weniger (ohne O-Ring-Übertragung) |
3×10^-4 Pa oder weniger |
2-Zoll-kompatible Bühne |
Hub 100 mm. Manuelle Bedienung. O-Ring-Wellendichtung |
MAX 500℃ (MAX 800℃ optional erhältlich) |
TMP + Membranpumpe |
Mit Nachlaufverstellung |
Ar (1/4 SwagelokTM oder 1/4 VCRTM) |
0,05–0,1 MPa (1/4 SwagelokTM oder 1/4 VCRTM) |
AC200V einphasig 20A) |
Vollbereichs-Vakuummessgerät (Kaltkathode + Pirani-Messgerät) |
Ungefähr 100 kg |
Die hier gezeigten Bewertungen sind Unternehmensbewertungen.
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