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Dieser Abschnitt bietet einen Überblick über Vakuumbeschichtungsgeräte sowie ihre Anwendungen und Funktionsweisen. Werfen Sie auch einen Blick auf die Liste der 2 Hersteller von Vakuumbeschichtungsgeräte und deren Firmenranking.
Inhaltsübersicht
Vakuumbeschichtungsgeräte werden für die Vakuumbeschichtung (VD) verwendet, bei der eine Substanz unter vermindertem Druck verdampft wird, um einen Film auf einem Gegenstand zu bilden.
Mit Vakuumbeschichtungsgeräten kann eine glatte Beschichtung auf einem Objekt erzeugt werden, deren Dicke und Zusammensetzung kontrolliert werden kann.
Vakuumbeschichtungsgeräte können zur Herstellung von Schichten auf verschiedenen Materialien verwendet werden, darunter metallische Werkstoffe wie Aluminium und organische/anorganische Materialien.
Vakuumbeschichtungsgeräte werden für folgende Anwendungen eingesetzt:
Eine Rotations- oder Turbomolekularpumpe wird verwendet, um den Druck in der Kammer zu verringern, das aufzudampfende Material zu verdampfen und es auf dem Objekt in einem gewissen Abstand aufzubringen. Durch den reduzierten Druck werden Verunreinigungen aus der Kammer entfernt und die Diffusion des verdampften Materials verbessert, was die Herstellung eines glatten Films mit guter Haftung ermöglicht.
Der Unterschied besteht jedoch darin, dass beim Beschichten das Rohmaterial aus der Flüssigphase zugeführt wird, während beim Verdampfen das Rohmaterial aus der Gasphase zugeführt wird.
Die in Vakuumbeschichtungsgeräten verwendeten Beschichtungsverfahren lassen sich je nach der Methode, mit der die Substanz verdampft wird, in zwei Typen unterteilen: Die physikalische Dampfabscheidung (PVD) und die chemische Dampfabscheidung (CVD). PVD und chemische Gasphasenabscheidung (oder chemische Gasphasenabscheidung, CVD).
Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist ein Verfahren zur Herstellung von Schichten durch Verdampfen oder Sublimation des Abscheidungsmaterials durch physikalische Mittel wie Erhitzung. Zu den Heizmethoden gehören Elektronenstrahl, Widerstandserwärmung, Hochfrequenzinduktion und Laser.
Plasma- und Molekularstrahlverfahren sind ebenfalls physikalische Aufdampfverfahren.
Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein Verfahren zur Bildung von Schichten durch Abscheidung von Materialien aus der Gasphase auf einem Gegenstand durch eine chemische Reaktion oder ein anderes chemisches Verfahren. Typische Beispiele sind die thermische CVD, die optische CVD, die Plasma-CVD, die metallorganische CVD und die Atomlagenabscheidung (ALD).
Darüber hinaus wurden verschiedene andere Methoden von Vakuumbeschichtungsgeräten entwickelt und sind verfügbar. Je nach Anwendung muss die geeignete Anlage ausgewählt werden.
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Bei diesem Produkt handelt es sich um eine Niedertemperaturzelle (Organic Deposition Cell: KOD-Cell), die bei niedrigen Temperaturen stabil arbeite...
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Bei diesem Netzteil handelt es sich um ein kleines Wechselstromnetzteil, das mit unserer organischen Dampfabscheidungszelle der KOD-Serie kompatibe...
Kitano Seiki Co., Ltd.
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Kitano Seiki Co., Ltd.
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Kitano Seiki Co., Ltd.
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■Funktionen ・Kompakt und einfach zu bedienen ・Einfache Wartung ・Filament-Heiztiegelkonfiguration für elektrische Heizung ・Zwei Arten von Metall...
Kitano Seiki Co., Ltd.
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■Funktionen ・Kompakt und einfach zu bedienen ・Einfache Wartung ・Filament-Heiztiegelkonfiguration für elektrische Heizung ・3 Arten von Metallmat...
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