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Dieser Abschnitt bietet einen Überblick über Reinigungssysteme sowie ihre Anwendungen und Funktionsweisen. Werfen Sie auch einen Blick auf die Liste der 0 Hersteller von Reinigungssysteme und deren Firmenranking.
Ein Reinigungssystem ist ein Gerät, das chemische und physikalische Eigenschaften nutzt, um unerwünschte Substanzen von der Oberfläche von Materialien zu entfernen.
Sie werden bei der Herstellung von Präzisionsgeräten, Halbleitern und Displays eingesetzt. Werden Reinigungssysteme nicht ordnungsgemäß verwendet, kann es häufig zu fehlerhaften Produkten und Ausbeuten kommen!
Es gibt verschiedene Reinigungsmethoden wie Ultraschallreinigung, Spritzreinigung, Bürstenreinigung, Trockenreinigung und Reinigung mit Lösungsmitteln. Bei der Herstellung von Halbleitern gibt es mehr als 500 Fertigungsprozesse, von denen der Anteil der Reinigungsprozesse auf 30 bis 40 % geschätzt wird.
Beispiele für spezifische Anwendungen von Reinigungssystemen sind:
Die Auswahl der Reinigungssysteme erfolgt unter Berücksichtigung der Art der Verschmutzung, der Größe des Reinigungsziels, der Reinigungszeit und der Reinigungsgenauigkeit. Auch die Reinigungsmethode, das verwendete Reinigungsmittel und die Trocknungsmethode sind wichtig.
Bei Halbleiterprozessen besteht die Aufgabe der Reinigung darin, Verunreinigungen von den Wafern zu entfernen. Zu den Verunreinigungen gehören kleine, unsichtbare Ablagerungen, so genannte Partikel, organische Stoffe, die in menschlichem Schmutz und Schuppen enthalten sind, Öle und Fette wie Schweiß und Verunreinigungen durch in der Fabrik verwendete Metalle.
Reinigungssysteme spülen diese Verunreinigungen mit Lösungsmitteln oder reinem Wasser ab. Nach der Reinigung ist eine Trocknung erforderlich. Dies wird als Dry-in/Dry-out bezeichnet, und die Wafer werden immer getrocknet, bevor sie aus der Anlage genommen werden.
Zu den typischen Methoden der Reinigungssysteme gehören Ultraschallreinigung, Sprühreinigung, Bürstenreinigung, Trockenreinigung und Lösungsmittelreinigung.
Bei Ultraschall-Reinigungssystemen wird das zu reinigende Objekt in eine chemische Lösung getaucht und im Inneren mit Ultraschallwellen in Schwingungen versetzt. Die Stärke und die Frequenz der Schwingungen werden je nach dem zu reinigenden Objekt ausgewählt.
Reinigungssysteme sind ein Verfahren zur Reinigung von Gegenständen durch Versprühen von Gas oder Flüssigkeit aus einer Düse. Es gibt auch handgeführte Reinigungssysteme, die für die Reinigung großer Objekte verwendet werden können.
Bei Bürstenreinigungssystemen werden Bürsten verwendet, um Schmutz zu entfernen, der dann mit einer Lösung oder einer Sprühflasche abgewaschen wird. Da Bürsten als physikalische Reinigungsmethode eingesetzt werden, können sie schwer zu entfernende Verunreinigungen reinigen.
Trockene Reinigungssysteme bestrahlen das zu reinigende Objekt mit UV-Licht (Ultraviolett), wodurch Ozon und Aktivsauerstoff entstehen, die mit dem Aktivsauerstoff reagieren und die Verschmutzung entfernen. Sie werden hauptsächlich in der Halbleiter- und Displayherstellung eingesetzt.
Lösungsmittel-Reinigungssysteme lösen und entfernen Verunreinigungen, indem sie die Lösekraft von Lösungsmitteln nutzen. Es können extrem gefährliche Lösungsmittel verwendet werden, daher ist Vorsicht geboten.
Die Grundstruktur eines Reinigungssystems besteht aus einem Fördersystem, einem Behandlungstank, einem Reinwassertank und einer Trocknungsstufe. Das Transportsystem ist eine Vorrichtung zum Be- und Entladen von Gegenständen, und die Gegenstände werden im Aufbereitungstank gereinigt. Der Reinwassertank dient zum Abwaschen der am Objekt anhaftenden Chemikalien, während die Trocknungsstufe zum Trocknen des Objekts verwendet wird.
In der Regel kann nur eine Art von Verunreinigung mit einer Art von Behandlungsflüssigkeit gereinigt werden; sollen mehrere Arten von Verunreinigungen gereinigt werden, sind mehrere Behandlungsbehälter und Reinwassertanks erforderlich. Bei der Herstellung von Halbleitern werden mit Batch-Anlagen mehrere Wafer auf einmal bearbeitet, während mit Single-Wafer-Anlagen jeweils ein Wafer bearbeitet wird.
Bei Batch-Anlagen werden die Wafer zusammen in einem Gehäuse, dem so genannten Carrier, untergebracht, und jeder Carrier wird zur Reinigung in eine Verarbeitungsschicht gelegt. Single-Wafer-Anlagen führen eine Sprühreinigung durch, während die Wafer einzeln gedreht werden.
In Reinigungssystemen verwendete Reinigungsmittel:
Bei der Reinigung von Halbleitern werden verschiedene Prozesslösungen verwendet. Die Verunreinigungen, die mit jeder Behandlungslösung entfernt werden können, sind unterschiedlich. Auf jede Behandlung folgt eine Spülung mit reinem Wasser.
Abschließend werden die Wafer mit reinem Wasser gespült und einem Trocknungsprozess unterzogen.
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Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Herkömmliche rotierende Sprühkugeln nutzen beim Sprühen oft eine Reaktionskraft, aber da die Rotation der Kugel selbst nicht kontrollie...
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Dieses Gerät lädt mehrere Werkstücke auf ein spezielles Gestell und führt die Reinigung mit warmem Wasser und das Spülen mit Wasser für...
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen PP-Roboter transportieren Teile mit instabilen Formen wie Einspritzdüsen und Vergaser. Vollautomatische Wasch- und Trocknungsanlage.
Maruzen Industries Co., Ltd.
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■Funktionen ・Ein einfaches Gerät, das die Trockenluftfilter von kleinen bis großen Fahrzeugen/schweren Maschinen per Handluft reinigt. ・Reinigung...
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■Funktionen Herkömmliche rotierende Sprühkugeln nutzen beim Sprühen oft eine Reaktionskraft, aber da die Rotation der Kugel selbst nicht kontrollie...
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■Funktionen Vollautomatische Reinigung der Außenfläche von Kunststoffdosen mittels Bürste und Reinigungsmittel. Die Reinigungsleistung wurde beschl...
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■Funktionen Eine vollautomatische Inline-Reinigungsmaschine. Front-End-Verarbeitungslinie = Back-End-Inspektions- und Sortiermaschine. Der größte V...
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■Funktionen Herkömmliche rotierende Sprühkugeln nutzen beim Sprühen oft eine Reaktionskraft, aber da die Rotation der Kugel selbst nicht kontrollie...
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■Funktionen GMP-konform für Pharmafabriken. Dieses System ist ideal für kleine Räume. Der Mechanismus ist sehr einfach.
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■Funktionen Auch das seit 10 Jahren verschmutzte Glasgehäuse des Stromverbrauchszählers wurde unter Hochdruck gereinigt. Auch Kohlenstoffflecken un...
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Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Es handelt sich um eine 3-reihige vollautomatische Linie. Reinigen Sie Gegenstände, die in den letzten 3 bis 6 Monaten verschmutzt und ...
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■Funktionen Reinigen Sie mehrere Teile gleichzeitig.
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■Funktionen Herkömmliche rotierende Sprühkugeln nutzen beim Sprühen oft eine Reaktionskraft, aber da die Rotation der Kugel selbst nicht kontrollie...
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■Funktionen Erhöhte Rechenleistung. Das Werkstück ist wunderschön reinweiß. Halbautomatische Methode.
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■Funktionen Die Späne aus den Gewindelöchern werden mittels NC-Bearbeitung gründlich entfernt und es werden eine Entfettung und eine Rostschutzbeha...
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Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Automatische Reinigung mit Heißwasserstrahl (80℃) mittels rotierender Hebedüse.
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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Anwendungsbeispiel ■Malerei ・Farbe blättert von Trolley-Aufhängern usw. in der Lackierstraße ab ・Alter Lack blättert ab ■Kohlenstoff Überholung ...
Okatsune Gear Manufacturing Co., Ltd.
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■Funktionen - Professionelle, großformatige Kaltwasserwaschmaschine. - Alle wichtigen Teile werden in Japan hergestellt. ・Geeignet für alle Branch...
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Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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●Funktionen Nach der Reinigung der Außenseite des Behälters mit einer Bürste wird dieser in einen Reinraum gestellt und geöffnet.
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Merkmale Bearbeitet alle 6 Sekunden einen Metallgrat. Anwendungsbeispiel ■Motorteile ・Entfernung von Graten usw. von Aluminium-Druckgussprodukten...
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Das Hauptmaterial ist hitzebeständiges PTFE SUS-304, das in einem Dampfsterilisator fixiert und gereinigt werden kann. Aufgrund des run...
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Ideal zum Reinigen stark verschmutzter Gegenstände, z. B. zum Polieren von Edelstahlbehältern mit Timersteuerung. Ausgestattet mit Toko...
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Anwendungsbeispiel ■Malerei ・Farbe blättert von Trolley-Aufhängern usw. in der Lackierstraße ab ・Alter Lack blättert ab ■Kohlenstoff Überholung ...
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Das Hauptmaterial ist hitzebeständiges PTFE SUS-304, das in einem Dampfsterilisator fixiert und gereinigt werden kann. Aufgrund des run...
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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■Funktionen Reinigen Sie das Innere der Mischmaschine ganz einfach, wenn Sie die Pigmentfarben wechseln.
Toko Giken Kogyo Co., Ltd.
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Merkmale In die Lichter einer Landebahn eines Flughafens eingebrannter Gummi wird mithilfe von Ultrahochdruckwasser entfernt. Anwendungsbeispiel ■...
Aztec Co., Ltd.
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■Bei dieser Methode wird das Erntegut zwischen zwei rotierenden Ober- und Unterbürsten eingeführt, um es zu reinigen. Stecken Sie den Leitungswasse...
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