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HF-CVD-Ausrüstung für die Diamantsynthese der HFCVD-SerieVerarbeitendes Unternehmen
Arios Co., Ltd.Kategorien
| Bild | Teilenummer | Preis (ohne Steuern) | Gasversorgungssystem | Kammermaterial/-form | Kammerkonfiguration | Heizleistung des Filaments | Leckmenge | Ultimatives Vakuum | Kontrollmethode | Druckeinstellung | Boardgröße (maximal) | Methode zur Substratkühlung | Abgasanlage | Hauptkörperständer | Temperaturmessung | Prozessgas | Druckluftversorgung | Netzstrom | Vakuummeter | Bewegungsdrehmechanismus | Größe des Probenhalters |
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HFCVD-6FHA |
Auf Anfrage erhältlich |
MFC2-Leitungen (H2, CH4), bis zu 7 Leitungen |
SUS-Horizontalkammer |
1 Kammer |
0~1,6 kW stufenlos variabel (Konstantstrommodus, Konstantleistungsmodus) ×2 |
1,0×10^-8Pa・m^3/s oder weniger (ohne O-Ring-Übertragung) |
5×10^-4Pa oder weniger |
Touchpanel (manuell) |
Automatischer Druckregler (APC) |
φ3 Zoll x 1 Stück |
Wasserkühlung |
Turbomolekularpumpe + Trockenpumpe |
Mit Rollen und Verstellern (inkl. Netzteil), Gewicht ca. 200 kg |
Strahlungsthermometer (je eines für Filament und Substrat) |
H2, CH4 (1/4" Swagelok oder 1/4" VCR) |
0,5 MPa |
[Körper] AC200V dreiphasig 40A, [Kühler] AC200V einphasig 15A |
Vollbereichs-Vakuummeter + Membran-Vakuummeter (für APC) |
Substratrotationsmechanismus (Motortyp: variable Rotationsgeschwindigkeit 0–30 U/min) |
φ80mm |
Die hier gezeigten Bewertungen sind Unternehmensbewertungen.
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100.0%
Antwortzeit
2.7Std.
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