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Wafer-Trockenreinigungsgerät WaferClean 2200-WaferClean 2200
Wafer-Trockenreinigungsgerät WaferClean 2200-Bruker Japan Co., Ltd.

Wafer-Trockenreinigungsgerät WaferClean 2200
Bruker Japan Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

■CO2-Trockenreinigungsgeräte für Wafer

・Partikelentfernung durch CO2-Präzisions-Trockenreinigung für Wafer ・Durch den Einsatz einer optimierten, einzigartigen Düse ist es möglich, die Durchflussrate, Partikelgröße und Dichte von CO₂ zu steuern. ・Unterstützt Partikel in empfindlichen Teilen wie MEMS und Rückstände wie Rapid Ear ・Keine Veränderung der Waferoberfläche aufgrund des chemikalienfreien Prozesses ・Manuelle Waferladegeräte für Forschung und Entwicklung sind ebenfalls erhältlich (VersaClean 1400).

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    Wafer-Trockenreinigungsgerät WaferClean 2200

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1 Modelle von Wafer-Trockenreinigungsgerät WaferClean 2200

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WaferClean 2200

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