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5-nm-Nanobearbeitungs-Fotomasken-Reparatursystem RAVE nm-VI-RAVE nm-VI
5-nm-Nanobearbeitungs-Fotomasken-Reparatursystem RAVE nm-VI-Bruker Japan Co., Ltd.

5-nm-Nanobearbeitungs-Fotomasken-Reparatursystem RAVE nm-VI
Bruker Japan Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

■Hochpräzise Nanobearbeitungs-Reparaturausrüstung

・Hochpräzise Modifikation von Fotomasken für hochmoderne Halbleiterbauelemente nach dem 7-nm-Knoten ・Die digitale Steuerung verbessert die Korrekturgenauigkeit weiter ・Durch die Digitalisierung der Steuerung der NanoBit™-Sonde haben wir eine Kantenplatzierung ≤ 2 nm und eine Z-Steuerung ≤ 1 nm erreicht. Auch Fotomasken der nächsten Generation wie Halbton-, Levenson- und Quarzmasken (CPL) können mit hoher Präzision modifiziert werden. ・Mit dem fortschrittlichsten HAR NanoBit™ können Defekte in feinen Mustern und Mustern mit hohem Seitenverhältnis mit hoher Präzision repariert werden. ・Durch Hinzufügen der BitClean-Optionsfunktion ist es möglich, Fremdsubstanzen auf der Maske, die keiner Korrektur bedürfen, ganz einfach zu entfernen, ohne dass Fremdsubstanzen entfernt oder Korrekturprozesse wie eine Nassreinigung durchgeführt werden müssen.

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    5-nm-Nanobearbeitungs-Fotomasken-Reparatursystem RAVE nm-VI

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1 Modelle von 5-nm-Nanobearbeitungs-Fotomasken-Reparatursystem RAVE nm-VI

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5-nm-Nanobearbeitungs-Fotomasken-Reparatursystem RAVE nm-VI-Part Number-RAVE nm-VI

RAVE nm-VI

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