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Plasma-CVD-Versuchsausrüstung PCVD-R100-PCVD-R100
Plasma-CVD-Versuchsausrüstung PCVD-R100-Arios Co., Ltd.

Plasma-CVD-Versuchsausrüstung PCVD-R100
Arios Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

■Zusammenfassung

CVD ist eine Abkürzung für Chemical Vapour Deposition und bezieht sich auf den Prozess, bei dem einem Rohmaterial Gas zugeführt, es mit Plasma oder Wärme zersetzt und aus den Komponenten ein Film gebildet wird. Es gibt verschiedene Methoden, am häufigsten kommen jedoch die Methoden zum Einsatz, die Wärme oder Plasma nutzen. Abhängig von der Frequenz gibt es verschiedene Arten der Plasmaerzeugung. Arios entwickelt und fertigt verschiedene Plasma-CVD-Geräte. Einzelheiten finden Sie unter Mikrowelle (2,45 GHz) vs. RF (13,56 MHz). Bei diesem Gerät handelt es sich um ein Plasma-CVD-Gerät, das mit experimentellen MO-Rohstoffen kompatibel ist. Es ist mit einer HF-Plasmaquelle, einem Substratheizmechanismus, einem Gasversorgungssystem, einer Ladeschleusenkammer usw. ausgestattet und kann verschiedene Rohmaterialgase mittels Plasma verarbeiten, um dünne Filme auf Substraten zu bilden.

■Funktionen

- Nutzt die Hochvakuumtechnologie von Arios und ermöglicht Filmabscheidungsexperimente in einem sauberen Vakuum. - Kompakte Kammer und einfache Konfiguration ermöglichen eine einfache Wartung. - Der Substratheizmechanismus besteht aus Materialien mit ausgezeichneter Hitzebeständigkeit und Gasbeständigkeit, was eine stabile Erwärmung über lange Zeiträume ermöglicht. - Dank des Lastverriegelungsmechanismus kann die Montage der Platine äußerst einfach und in kurzer Zeit durchgeführt werden, ohne dass sie der Atmosphäre ausgesetzt werden muss.

■Optionen

・MO-Gasversorgungssystem ・Parallelplattenelektrode + Duschkopf

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    Plasma-CVD-Versuchsausrüstung PCVD-R100

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1 Modelle von Plasma-CVD-Versuchsausrüstung PCVD-R100

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) Gasversorgungssystem Plasmaquelle Schleusenkammer laden Reaktionskammer Boardgröße Mechanismus zur Erwärmung des Substrats Hauptkörperständer Dienstprogramm Vakuum-Abgassystem
Plasma-CVD-Versuchsausrüstung PCVD-R100-Part Number-PCVD-R100

PCVD-R100

Auf Anfrage erhältlich

MFC + Ventile

RF: 0~500 W variabel + automatische Anpassungsbox (induktive Kopplung oder kapazitive Kopplung)
Reaktionsrohr: Quarzrohr φ40×36

Hergestellt aus SUS 304
Lukenanschluss + O-Ring-Übertragungsstange

Hergestellt aus SUS 304

~φ100

Maximale Heiztemperatur: 900℃
Brettposition: variabel nach oben und unten
Stromversorgung: Gleichstromversorgung + Temperaturregler

Mit Rollen und Verstellern

Dreiphasig AC200V 60A
Einphasig AC100V 10A
Kühlwasser 1 L⁄min

Ladeschleuse: TMP+RP
Reaktionskammer: RP + Falle

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