MP-CVD-Ausrüstung für die Diamantsynthese DCVD-301B/601B-DCVD-301B

MP-CVD-Ausrüstung für die Diamantsynthese DCVD-301B/601B
Arios Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

■ZusammenfassungBei diesem Gerät handelt es sich um ein Mikrowellen-Plasma-CVD-Gerät zur Diamantherstellung. Durch die umfassende Nutzung unserer einzigartigen Plasmatechnologie haben wir ein großflächiges und schnelles Wachstum erreicht. Wir erfüllen Ihre Anforderungen an Produktionsmaschinen. Kompatibel mit Substraten bis zu 2 Zoll und ermöglicht homoepitaxiales und heteroepitaxiales Wachstum.

Zu unserem Sortiment gehören außerdem die DCVD151-Serie, ein CVD-System für die Synthese von einkristallinem Diamant, das Syntheseexperimente mit hochreinem Diamant ermöglicht, und die HFCVD-Serie, ein HF-CVD-System für die Diamantsynthese, das das Hot-Filament-CVD-Verfahren nutzt.

■Funktionen・Einzigartige Struktur, die verhindert, dass Plasma mit den Kammerwänden in Kontakt kommt, ermöglicht die Synthese hochreiner einkristalliner Diamanten in Halbleiterqualität
・Eine spezielle kuppelförmige Kammer und eine spezielle Elektrode sorgen für einen hocheffizienten, energiesparenden Betrieb und schnelles Wachstum.
・Der Betrieb ist möglich, während der Entladungszustand und die Platine direkt vom Sichtfenster aus beobachtet werden.
・Erzielen Sie stabile Prozesse mit unserem einzigartigen automatischen Druckregler (APC)
・Unterstützt die Verarbeitung eines 2-Zoll-Substrats oder mehrerer Diamantsubstrate

■Optionen・Gassystem hinzugefügt (bis zu 7 Systeme)
・Automatische Steuerung (Rezeptbetrieb)
・Automatisches Mikrowellen-Anpassgerät (DCVD-301B)

Modell
Es gibt 1 Modell für dieses Produkt.

Produkt
MP-CVD-Ausrüstung für die Diamantsynthese DCVD-301B/601B

Verarbeitendes Unternehmen
Arios Co., Ltd.

Kategorien

Fertigungs-/Baumaschine

Plasma CVD

Fertigungs-/Baumaschine

Depositionsanlagen

Herstellung von Halbleitern

CVD-Ausrüstung

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1 Modelle von MP-CVD-Ausrüstung für die Diamantsynthese DCVD-301B/601B

Bild	Teilenummer	Preis (ohne Steuern)	Gasversorgungssystem	Kammermaterial/-form	Kammerkonfiguration	Prozessgas	Mikrowelle	Methode zur Mikrowellen-Stromversorgung	Leckmenge	Ultimatives Vakuum	Kontrollmethode	Druckeinstellung	Druckluft	Boardgröße (maximal)	Methode zur Substraterwärmung	Abgasanlage	Hauptkörperständer	Temperaturmessung	Netzstrom	Vakuummeter	Größe des Probenhalters
	DCVD-301B	Auf Anfrage erhältlich	MFC5-Systeme (H2, CH4, N2, O2, Ar), bis zu 7 Systeme	Spezielle kuppelförmige Kammer aus Aluminium	1 Kammer	H2, CH4, N2, O2, Ar (1/4" Swagelok oder 1/4" VCR)	0~3 kW stufenlos regelbar (2,45 GHz) + manuelle Anpassungsbox	Antennenspeisetyp (dient auch als Probentisch)	1,0×10^-8Pa・m^3/s oder weniger (ohne O-Ring-Übertragung)	1×10^-1Pa oder weniger	Touchpanel (manuell)	Automatischer Druckregler (APC)	0,5 MPa	□5mm x 7 Stück oder φ1 Zoll x 1 Stück	Plasmaheizung: MAX1.200℃, interne Wasserkühlung	Mechanische Druckerhöhungspumpe + Trockenpumpe + Turbomolekularpumpe	Mit Rollen und Verstellern (inkl. Netzteil), Gewicht ca. 250 kg	Strahlungsthermometer	[Gehäuse] AC200V dreiphasig 30A [Kühler] AC200V einphasig 15A *DCVD-301B	Pirani-Vakuummeter + Vollbereichs-Vakuummeter + Membran-Vakuummeter (für APC)	Ø27mm