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Mikrowellenplasma-Versuchsausrüstung MiPC-1000-MiPC-1000
Mikrowellenplasma-Versuchsausrüstung MiPC-1000-Arios Co., Ltd.

Mikrowellenplasma-Versuchsausrüstung MiPC-1000
Arios Co., Ltd.

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Über dieses Produkt

■Zusammenfassung

Bei Arios stellen wir Plasma-Versuchsgeräte mit Mikrowellen her. Da wir alles im eigenen Haus entwerfen, einschließlich der Plasmaquelle und der Mikrowellenstromversorgung, können wir Produkte gemäß den vom Kunden gewünschten Spezifikationen entwerfen und herstellen und dabei ein flexibles Design nutzen, das nur möglich ist, weil wir alles im eigenen Haus entwerfen. Wir können eine Vielzahl von Mikrowellen-Experimentiergeräten herstellen, mit denen DLC-Filme, Kohlenstoffnanoröhren, Plasmasterilisation, Vakuum-Ultraviolettbestrahlung und andere Plasmaexpositionsexperimente durchgeführt werden können. Plasma wird in den Abschnitten „Praktische Plasmatechniken“ und „Plasma-Fragen und Antworten“ ausführlich erläutert. Bitte werfen Sie auch einen Blick darauf.

■Funktionen

- Der Substratbewegungsmechanismus ermöglicht die beliebige Einstellung der Substrat- und Plasmapositionen und ist somit mit einer Vielzahl von Prozessen kompatibel. ・Wenn das Substrat in das Plasma eingeführt wird, wird es durch das Plasma erhitzt, sodass bei der Herstellung einer Diamant-Dünnschicht keine Heizung erforderlich ist. - Wenn Sie einen Temperaturanstieg vermeiden möchten, können Sie das Substrat wegbewegen und die Remote-Plasma-Methode verwenden. ・Das Abgassystem ist standardmäßig mit einer Turbomolekularpumpe ausgestattet, optional ist auch eine Rotationspumpenausführung erhältlich.

■Optionen

・Mikrowellen-Plasmaquelle vom Antennentyp ・Ändern des Hubs des vertikalen Brettmechanismus ・Nur Rotationspumpe ・Substrat-Bias-Stromversorgung ・Änderung der Boardgröße ・Ladeverriegelungsmechanismus *Zusätzlich zu den Standardspezifikationen entwerfen und fertigen wir Produkte auch nach angeforderten Spezifikationen.

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    Mikrowellenplasma-Versuchsausrüstung MiPC-1000

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1 Modelle von Mikrowellenplasma-Versuchsausrüstung MiPC-1000

Bild Teilenummer Preis (ohne Steuern) Gasart Plasmaquelle Ausgangsleistung der Mikrowelle Leckmenge Ultimatives Vakuum/ultimativer Druck Substrat Board-Auf-/Ab-Mechanismus Mechanismus zur Erwärmung des Substrats Hauptkörperständer Dienstprogramm Vakuummeter Musteraustausch
Mikrowellenplasma-Versuchsausrüstung MiPC-1000-Part Number-MiPC-1000

MiPC-1000

Auf Anfrage erhältlich

H2, Ne, N2, Ar, O2, CH4 usw.

Orthogonale Quarzwellenleitermethode

0 ~ 1.000 W (2,45 GHz ± 50 MHz)

1,0×10^-8 Pa・m^3/s oder weniger (ohne O-Ring-Übertragung)

5,0×10^-4 Pa oder weniger (bei Verwendung einer Turbomolekularpumpe)

Kompatibel mit φ20-mm-Platinen

Hub 235mm

Maximale Heiztemperatur 1.000℃

Mit Rollen und Verstellern (inkl. Netzteil)
Gewicht ca. 150 kg

AC100V 20A, AC200V 3 Phasen 20A
Prozessgas: SwagelokTM 1/4 oder VCRTM 1/4

Kaltkathoden-Pirani-Messgerät, Kapazitätsmessgerät

Ersatzluke

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