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Dieser Abschnitt bietet einen Überblick über Nano-Imprint-Maschinen sowie ihre Anwendungen und Funktionsweisen. Werfen Sie auch einen Blick auf die Liste der 0 Hersteller von Nano-Imprint-Maschinen und deren Firmenranking.
Inhaltsübersicht
Nanoimprint-Geräte sind Geräte, die das Nanoimprinting zur Herstellung ultrafeiner Schaltkreismuster usw. durchführen.
Sie werden hauptsächlich für die Herstellung ultrafeiner Schaltkreismuster auf Halbleitern verwendet.
Nanoimprint-Geräte werden für die Herstellung von ultrafeinen Schaltkreismustern auf Halbleitern und anderen Materialien verwendet. Da Nanoimprint-Geräte die Massenproduktion von feinen Mustern erleichtern, ist es möglich, Mikroschaltungen herzustellen, was früher schwierig und kostspielig war.
Neben dem Halbleiterbereich wird die Technologie auch in Bereichen wie der Biotechnologie und bei Displays eingesetzt. Sie werden auch zunehmend zu Forschungs- und Entwicklungszwecken in Forschungseinrichtungen wie Universitäten und Forschungszentren sowie zur Herstellung von Prototypen verwendet, die den Bedingungen und Spezifikationen von Produktionsstätten entsprechen.
Ein Nanoimprint-Gerät ist ein Gerät zur Realisierung der Nanoimprint-Technologie. Das Nanoimprint-Gerät besteht aus einem mit Glas oder Harz beschichteten Substrat, einer Plattform und einer Form mit einem ultrafeinen Muster darauf, die gegenüber der Plattform angebracht wird.
Die wesentlichen Komponenten sind dann Pressmittel zum Pressen der Form auf das Substrat und Aushärtungsmittel zum Aushärten des Glases oder Harzes. Mit anderen Worten, die Form wird mit Hilfe der Pressmittel gegen das geschmolzene Glas oder Harz auf dem Substrat gepresst und die Form der Form wird übertragen.
Das Glas oder Harz, auf das die Form übertragen wird, wird durch das Aushärtungsmittel gehärtet, um eine Glas- oder Harzschicht mit einem ultrafeinen Muster auf dem Substrat zu bilden. Außerdem sind Nanoimprint-Geräte in der Regel groß und platzraubend, aber es gibt jetzt auch Nanoimprint-Geräte, die kompakt genug sind, um mitgenommen zu werden.
Die Nanoimprint-Technologie ist eine Technologie, bei der die gleiche Form auf Glas oder Harz übertragen wird, indem eine Form mit einem durch Mikrofabrikation eingravierten Muster im Ultramikromaßstab aufgepresst wird. Diese Technologie ermöglicht die Massenproduktion von identischen Teilen mit Mustern im Ultramikromaßstab in kurzer Zeit.
Für die Harzschicht auf dem Substrat von Nanoimprint-Geräten werden zwei Arten von Harzen verwendet: thermoplastische Harze und lichthärtende Harze. Thermoplastische Harze sind Harze, die schmelzen, wenn sie auf eine hohe Temperatur erhitzt werden, und wieder aushärten, wenn sie abkühlen.
Lichthärtende Harze hingegen sind Harze, die durch Lichtbestrahlung aushärten, wie z. B. UV-härtende Harze. Daher umfassen die Aushärtungsmethoden von Nanoimprint-Geräten die Kühlung und die Bestrahlung mit Licht, z. B. mit UV-Licht.
Einige Nanoimprint-Geräte verfügen über eine oder beide dieser Methoden.
Bei Nanoimprint-Geräten werden die meisten Harzschichten auf dem zu bedruckenden Substrat durch gleichmäßiges Auftragen von Harz auf das Substrat gebildet. Bei dieser Methode ist zu befürchten, dass die Ränder des Musters je nach Form des Musters und der Aushärtungsgeschwindigkeit des Harzes beim Formen des Musters schlaff werden können.
Eine Methode, die hier Abhilfe schaffen soll, ist die Anwendung der Tintenstrahldruckertechnologie bei der Aufbringung von Harz auf das Substrat. Mit anderen Worten: Mit Hilfe der Tintenstrahldruckertechnologie wird die optimale Menge an geschmolzenem Harz ausgestoßen und nur auf den Bereich aufgetragen, der der Form des Musters auf dem Substrat entspricht, um eine Harzschicht zu bilden.
Zu diesem Zeitpunkt wird die optimale Zufuhr von geschmolzenem Harz bestimmt und in die Anlage eingebaut, wobei die für das Muster geeignete Harzmenge, die Geschwindigkeit, mit der das Harz in das Muster fließt, und die Aushärtungsgeschwindigkeit berücksichtigt werden.
Unter den Anlagen zur Herstellung von Halbleitern eignen sich Lithographieanlagen für die Herstellung ultrafeiner Muster. Bei dieser Anlage wird die gleichmäßig auf das Substrat aufgebrachte Harzschicht entsprechend dem Muster mit Licht bestrahlt. Mit anderen Worten, das System härtet nur die Bereiche aus, die dem Licht ausgesetzt sind, um ein Muster zu bilden, und das Muster wird durch Entwicklung und Entfernung der unerwünschten Bereiche vervollständigt.
Bei diesem Verfahren erfolgt die Lichtbestrahlung durch reduzierte Projektionsbelichtung entsprechend dem Schaltungsmuster. Diese reduzierte Projektionsbelichtung wird durch ein Linsensystem gesteuert, aber das Problem ist, dass das Linsensystem schwer zu steuern ist und die Ausrüstung groß ist.
Bei Nanoimprint-Geräten hingegen wird eine Form mit einem ultrafeinen Schaltkreismuster gegen die Harzschicht gedrückt und auf einmal mit Licht bestrahlt, so dass das Linsensystem nicht gesteuert werden muss. Dies ermöglicht die Herstellung von Halbleitern mit ultrafeinen Schaltkreismustern mit sehr einfachen Verfahren, und die Erwartungen an Nanoimprint-Geräte steigen.
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